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真空快速退火爐

簡要描述:AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。

  • 產(chǎn)品型號:AS-Micro
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:1798

詳細介紹

AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250/Second全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。

 

產(chǎn)品特點:

1、 紅外鹵素燈管加熱,冷卻采用風冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);

2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達到初的熱處理效果;

3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設計,雙層不銹鋼;

冷壁水冷技術優(yōu)點在于:1、無記憶,2、工藝重復性高,3、冷卻速度快;

4、反應腔室的設計,氣體的進入口設計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;

5、快速數(shù)字PID控溫;

6、熱電偶設計上采用中間和邊緣安裝模式,測試的樣品的溫度,控溫精準;

7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;

8、zui多3工藝氣體,配數(shù)字質量流量控制器;

9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度;

10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設計,用于小樣品測試;

11、可選配分子泵,用于高真空測試;

12、可選配雙腔體設計, 達到高潔凈工藝,避免交叉污染。

 

產(chǎn)品標準配置及規(guī)格參數(shù):

1、樣品大尺寸:3-inch;

2、紅外鹵素燈:6支; 大功率:15KW

3、紅外鹵素燈冷卻方式:風冷;

4、溫度范圍:室溫~1250 ℃;

5、升溫速率:0.1 ~250 /s

6、溫度控制:快速數(shù)字PID控制;

7、熱電偶:2N型熱電偶;

8、工藝氣體氣路配質量流量計:壓力:2bars,zui多可配置3路; 

9、配置真空泵及真空規(guī):真空度:10e-3 Torr;(分子泵選配10e-6 Torr

10、尺寸:700*700*750mm (W*D*H) 重量:凈重82Kg;

 

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