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等離子刻蝕機(jī)的檢驗操作及處理模式都在這兒了等離子刻蝕機(jī)的原理是在真空狀態(tài)下，利用射頻輻射使得氧、氬、氮、四氟化碳等氣體生成具有高反應(yīng)活性的離子與器件等反應(yīng)形成揮發(fā)性化合物，然后由真空系統(tǒng)獎這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去。等離子刻蝕機(jī)檢驗操作及判斷1.確認(rèn)萬用表工作正常，量程置于200mV。2.冷探針連接電壓表的正電極，熱探針與電壓表的負(fù)極相連。3.用冷、熱探針接觸硅片一個邊沿不相連的兩個點(diǎn)，電壓表顯示這兩點(diǎn)間的電壓為正值，說明導(dǎo)電類型為P型，刻蝕合格。相同的方法檢測另外三個邊沿的導(dǎo)電...

操作干冰清洗機(jī)是個細(xì)致活，這些事項一定要先看起來干冰清洗機(jī)可用于任何需去毛刺的行業(yè)。1、可全天侯作業(yè)，工作不受環(huán)境影響;2、故障率低，設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定維護(hù)簡單。二、符合國家標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范，擁有相關(guān)證件。干冰清洗機(jī)的機(jī)器性能干冰清洗機(jī)的工作原理與噴鋼砂、噴塑料砂及噴蘇打相似,在干冰去毛刺作業(yè)時噴射介質(zhì)干冰顆粒在高壓氣流中加速,通過噴嘴噴出,沖擊待清洗表面。干冰去毛刺的*之處在于干冰顆粒在沖擊瞬間氣化，干冰的動量在沖擊瞬間消失，干冰顆粒與去毛刺表面間迅速發(fā)生熱交換的變化。干冰清洗機(jī)的操作...

美國CARVER熱壓機(jī)掉壓和高壓分別是什么原因引起的在使用人造板熱壓機(jī)時可能會出現(xiàn)各種小故障是無法避免的，所以我們可以學(xué)習(xí)解決一下這些小故障。1、在油缸漏油時主要原因是橡膠密封圈沒有安施好造成的，應(yīng)急時調(diào)整。2、如果在熱壓機(jī)表面不小心有劃傷道痕，這些可以是由于在油中有雜物，如果表面劃痕出現(xiàn)后不及時找出雜物，會使高壓油液也將會進(jìn)行強(qiáng)烈的磨削，后造成劃傷道痕繼續(xù)擴(kuò)大熱壓機(jī)造成巨大的損壞。3、在熱壓機(jī)加壓時，濕板中會多少滲漏出酸性水質(zhì)，對機(jī)器的活塞造成損傷，所以要處理濕板滲漏出的水...

使用德國Unitemp高溫退火爐需要遵循常見的操作步驟德國Unitemp高溫退火爐常見操作與應(yīng)用德國Unitemp高溫退火爐是通過熱處理可以改變鋼的組織結(jié)構(gòu)，從而改善鋼的性能。熱處理可以顯著提高鋼的機(jī)械性能，延長機(jī)器零件的使用壽命。恰當(dāng)?shù)臒崽幚砉に嚳梢韵T、鍛、焊等熱加工工藝造成的各種缺陷，細(xì)化晶粒、消除偏析、降低內(nèi)應(yīng)力，使鋼的組織和性能更加均勻。(1)均勻鋼的化學(xué)成分及組織，細(xì)化晶粒，調(diào)整硬度，并消除內(nèi)應(yīng)力和加工硬化，改善鋼的切削加工性能并為隨后的淬火作好組織準(zhǔn)備。(2)...

集結(jié)號：NXQ4006光刻機(jī)的操作步驟及工作過程1.汞燈位置調(diào)節(jié)汞燈位置調(diào)節(jié)在換燈后或燈位置變動時會改變照明的均勻性和照明的光強(qiáng)，這時調(diào)節(jié)三維燈座臺，使汞燈球體位于橢球鏡的焦點(diǎn)上，這時照明強(qiáng)度大，均勻性好。2.NXQ4006光刻機(jī)的開機(jī)準(zhǔn)備（1）.供給機(jī)器的電源配電插座應(yīng)有220伏的供電能力，在總電源插頭插上后，機(jī)柜已通電。（2）.開啟空氣壓縮機(jī)和真空泵，要求：供氣壓力大于0.4Mpa（表壓）,真空度高于-0.06Mpa。3．開機(jī)正常工作時，先按“汞燈電源”紅色按鈕，啟輝汞燈...

WABASH平板硫化機(jī)的安裝操作規(guī)程，一定要好好學(xué)習(xí)WABASH平板硫化機(jī)為實(shí)現(xiàn)好的性能、偏差而設(shè)計，WABASH所有的壓力機(jī)具有用戶友好操作界面及z大可靠性。具備大型鋼板的壓力機(jī)同樣有超大臺面，使偏差z小化，這樣提高了部件的質(zhì)量。與柱塞式液壓缸并用，一體式液壓系統(tǒng)保證了快速的壓機(jī)閉合，慢速閉合段。當(dāng)考慮需要短的循環(huán)時間、高模壓及溫控時，這種配置是理想的復(fù)合材料壓成型應(yīng)用設(shè)備。WABASH平板硫化機(jī)的安全操作規(guī)程1、所有模具放入平板時必須居中，送取模具要帶好手套，防止?fàn)C傷。2...

NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)可在多種領(lǐng)域中應(yīng)用NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)全面滿足科學(xué)研究，工藝級生產(chǎn)等多領(lǐng)域的應(yīng)用。*采用非接觸式100%標(biāo)定系統(tǒng)，對晶圓和掩膜沒有傷害，大大提高間隙精度非接觸式掩膜對準(zhǔn)機(jī)maskaligner適合各種電子元器件，包括半導(dǎo)體，LED,LD,MEMS，傳感器等。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)主要是用于光刻膠曝光。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠...